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市場反彈中悄然崛起的板塊:三條主線把握半導體設備產業(yè)紅利

2025-12-16
本周五A股反彈行情里,半導體設備板塊表現亮眼,拓荊科技、中科飛測等個股盤中漲幅超10%,板塊指數大漲3.26%,距離前期高點僅一步之遙,資金搶籌的跡象十分顯著。



(來源:同花順)


這波上漲并非偶然,AI算力爆發(fā)、存儲周期上行、國產替代提速這三大有利因素疊加,讓作為芯片產業(yè)“賣鏟人”的半導體設備行業(yè),正站在業(yè)績兌現的風口。


回顧此前板塊的波動,其實是短期情緒與長期邏輯的暫時偏離:晶圓廠階段性備貨調整、海外制裁擔憂等干擾因素已逐漸消退,而全球半導體復蘇、國內擴產提速的核心邏輯愈發(fā)清晰,資金自然重新回流到這一高確定性賽道。


海內外市場共振,半導體設備需求升溫


首先,全球半導體行業(yè)正快速復蘇。據世界半導體行業(yè)協(xié)會(WSTS)數據,2025年上半年全球半導體市場規(guī)模達3460億美元,同比增長18.9%,全年預計增長15.4%,規(guī)模將達7280億美元。


作為產業(yè)先行指標的半導體設備,迎來爆發(fā)式增長——國際半導體設備與材料協(xié)會(SEMI)預測,2025年全球設備出貨金額近1000億美元,2026年將升至1381億美元,連續(xù)三年增長,核心動力來自AI與HBM帶來的高性能需求。



海外市場率先開啟擴產競賽,存儲大廠資本開支猛增。三星、SK海力士、美光三大存儲原廠2025年資本開支同比增幅超80%:三星將DDR4產線升級為DDR5,加碼HBM產線;SK海力士全年資本開支上調至203億美元,重點布局HBM3E與3D DRAM;美光新加坡工廠聚焦無電容結構優(yōu)化,穩(wěn)步提升產能。



技術升級讓設備需求“量價齊升”。3D NAND堆疊層數向500層甚至1000層突破,對高深寬比刻蝕、先進薄膜沉積的要求大幅提升,泛林半導體測算,NAND堆疊層數從100層提升至500層,相關設備市場規(guī)模將增長1.8倍。


國內市場雙線發(fā)力,擴產與國產替代加速。長鑫存儲完成IPO輔導,估值達1400億元,上市后將加碼擴產;長江存儲三期項目注冊成立,注冊資本207.2億元,產能擴充加速。


政策和資本加碼支持。國家集成電路產業(yè)投資基金三期注冊資本3440億元,重點支持設備和材料;深圳等地方政府出臺專項政策,為國產設備提供場景驗證和資金支持。截至2025年上半年,中國大陸半導體設備市場規(guī)模達216.2億美元,占全球33.2%,是全球最大單一市場。


存儲周期啟動,設備需求爆發(fā)


AI大模型是存儲需求的超級發(fā)動機。多模態(tài)模型、思維鏈機制推動Tokens消耗量暴增,直接拉滿AI服務器對存儲容量與帶寬的要求。


美光數據顯示,AI服務器的DRAM容量是普通服務器的8倍,NAND容量是3倍,單臺AI服務器存儲需求高達2TB。


作為解決“內存墻”的核心方案,HBM已成為高端AI芯片標配,2024-2030年全球HBM收入年復合增長率達33%,未來在DRAM市場的份額有望突破50%。


存儲行業(yè)進入“量價齊升”的超級周期。需求端,AI服務器、數據中心、消費電子復蘇形成三重拉動;供給端,海外原廠將產能向高毛利的HBM和Server DRAM傾斜,主動控制常規(guī)存儲產能,導致供需缺口持續(xù)擴大。


國內存儲的剛性缺口凸顯擴產緊迫性。我國存儲芯片長期存在15-20%的貿易逆差,外資在華產能受全球分配與地緣政治影響,實際缺口遠超統(tǒng)計數據。



這種供需矛盾下,長鑫存儲、長江存儲的擴產不僅是填補國內空白,更要參與全球市場競爭。


一條12英寸存儲產線的設備投資超50億美元,前道設備占比80%以上。隨著擴產推進,設備采購規(guī)模有望超百億,國產設備憑借性價比與快速響應優(yōu)勢,有望在采購中占據重要份額。


更關鍵的是,當前核心設備國產化率仍處低位,替代空間巨大——光刻機國產化率不足1%,量測設備不足5%,刻蝕、薄膜沉積設備僅10-30%,這些都是未來的核心突破方向。



淘金攻略:三條主線鎖定產業(yè)紅利


長期來看,半導體設備行業(yè)由“技術迭代+國產替代”雙輪驅動,AI和存儲技術不斷變革,持續(xù)催生新的設備需求;國產設備從成熟制程向先進制程、從單點突破向平臺化發(fā)展,逐步實現全面替代,成長空間巨大。


從設備價值量分布看,晶圓制造設備占比90%,其中刻蝕、光刻、薄膜沉積設備是核心,合計占比超60%,這些領域是投資重點方向。



1. 核心設備主線:技術迭代下的量價齊升


核心設備是半導體產線的基石,成長確定性最強。刻蝕設備領域,中微公司累計裝機超4500腔,3D NAND領域市占率持續(xù)提升;北方華創(chuàng)ICP/CCP刻蝕全系列布局,進入頭部晶圓廠量產。薄膜沉積設備領域,拓荊科技PECVD/ALD設備國內市占第一,HBM混合鍵合設備實現突破;微導納米High-k ALD設備產業(yè)化,直接受益存儲擴產;盛美上海電鍍設備全球市占率8.2%,位列第三。


2. 平臺化龍頭:一站式采購的紅利贏家


平臺化龍頭產品線覆蓋廣,能滿足晶圓廠“一站式采購”需求,客戶粘性更強,成長彈性更大。北方華創(chuàng)作為國內半導體設備平臺型龍頭,涵蓋刻蝕、薄膜沉積、清洗等前道核心工藝,控股芯源微完善涂膠顯影短板,2025年前三季度營收同比增長33%。


3. 細分賽道:國產化率低的“小而美”機會


部分細分賽道雖規(guī)模不大,但國產化率低、增長快,具備“小而美”的成長特征。例如量測設備領域,中科飛測缺陷檢測設備累計交付超700臺,HBM量測設備優(yōu)勢顯著;精測電子14nm先進制程明場缺陷檢測設備已交付。芯源微臨時鍵合機獲多家客戶訂單,步入放量階段。


結語


從年初的周期擾動到年底的板塊爆發(fā),A股半導體設備板塊的市場表現,本質是行業(yè)從“短期承壓”向“成長確定性兌現”的價值回歸。


隨著2026年全球設備市場突破1300億美元大關,AI+存儲雙驅動下的技術迭代與國產替代進入深水區(qū),行業(yè)將邁入“量價齊升+份額提升”的黃金增長期,結構性機會值得長期布局。對于投資者而言,當前正是把握行業(yè)長期發(fā)展的關鍵窗口。


注:本文版權屬北京格隆匯投資顧問有限公司及投研團隊(曾潤:A0160623020001)整理,文中所涉公司僅為案例分析,不構成任何投資推薦。市場有風險,投資需謹慎。


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